...

G-33E4型高精密雙面光刻機(jī)一、設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適...

G-33B6型高精密雙面光刻機(jī)一、設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)（三點(diǎn)找平）極為突出，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、...

一、設(shè)備概述:本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。曝光頭部件圖 CCD顯微系統(tǒng)|X、Y、Q對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái) 二、主要功能...

G-31D4型高精密雙面光刻機(jī)一、設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。二、主要功能特點(diǎn)1.適用范圍廣適用于φ1...

G-33E6型高精密雙面光刻機(jī)一、設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)(三點(diǎn)找平）極為突出，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶...

G-31B6型高精密雙面光刻機(jī)一、設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、各大院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。CCD顯微系統(tǒng)|X、Y、Q對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)二、...

G-31B4型高精密雙面光刻機(jī)一、主要用途:主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。二、主要性能指標(biāo)：1.曝光類型：接觸式、版片對(duì)準(zhǔn)單面曝光；2.曝光面積：φ100mm； 3....

G-33B4型高精密雙面光刻機(jī)一、設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu):(三點(diǎn)找平）極為突出，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶...

G-33D8型高精密雙面光刻機(jī)一、主要用途與特點(diǎn)本設(shè)備用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)，找平機(jī)構(gòu)（三點(diǎn)找平）極為突出，找平力極小，這帶來諸多顯著效果：一是在基片曝光操作上適用性廣泛，各類常規(guī)基片曝光時(shí)，本機(jī)均可穩(wěn)...

G-33D6型高精密雙面光刻機(jī)設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)(三點(diǎn)找平）極為突出，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的...

G-33D4型高精密雙面光刻機(jī)一、設(shè)備概述：本設(shè)備用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)，找平機(jī)構(gòu)（三點(diǎn)找平）極為突出，找平力極小，這帶來諸多顯著效果：一是在基片曝光操作上適用性廣泛，各類常規(guī)基片曝光時(shí)，本機(jī)均可穩(wěn)定、...