G-25ZD4型高精密單面光刻機

基本尺寸圖

一、主要用途

本設(shè)備是我公司專門針對各高校及科研單位對光刻機的使用特性研發(fā)的一種精密光刻機，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)

LED曝光頭及部件圖

高精度X、Y、Q 調(diào)節(jié)機構(gòu)

二、主要技術(shù)指標(biāo)：

1、曝光類型：自動對準(zhǔn)，接觸式單面曝光；

2、曝光面積：100mm×100mm；

3、光照均勻性：≥97%（測量儀器：光強計；測量方法：逐點檢測法）；

4、曝光強度：≤30mw/cm²，（測量儀器：光強計；測量方法：紫外線照度計測量）；

5、紫外光束角：≤3?；

6、紫外光中心波長：365nm；

7、光源質(zhì)保期：1年；

8、采用電子快門；

9、曝光分辨率：1μm；

10、對準(zhǔn)范圍： X、Y ≤ ±1mm；Q≤±1°；

11、對準(zhǔn)精度：3.5μm；

12、套刻精度：3.5μm；

13、對位方式：圓點（0.4mm）和圓環(huán)方式（1.5mm,1.8mm）；

14、分離量；100μm；

15、曝光方式：接觸式單面曝光；

16、裝片方式：手動；

17、顯微系統(tǒng)：雙視場CCD系統(tǒng)，電子顯微鏡，雙物鏡距離可調(diào)范圍40mm～100mm，計算機圖像處理系統(tǒng)，19″液晶監(jiān)視器；

18、掩模版尺寸：≤127×127mm；

19、基片尺寸：≤Φ100mm；

20、基片厚度：≤5 mm；

因基片的厚度不同，制作承片臺時需要進行分級處理，單獨設(shè)計制作，1mm為一個等級(基片厚度:0-5mm可分為五個等級：0-1mm,1-2mm,2-3mm,3-4mm,4-5mm)其中：我公司隨機配送厚度為0-1mm等級的承片臺，若用戶還需其余等級承片臺（訂貨時用戶須說明，費用另議）。

21、曝光定時：0～999.9秒可調(diào)；

22、設(shè)備所需能源：

主機電源： 220V±10%   50HZ，1.5KW。

潔凈空氣≥0.4MPα。

真空：-0.07～－0.08MPα。

23、G-25ZD4型高精密光刻機的組成：

由LED紫外曝光頭、CCD顯微顯示系統(tǒng)、對準(zhǔn)工作臺、電氣控制系統(tǒng)構(gòu)成。

24、附件如下：

主機附件：（出廠時安裝到機器上的標(biāo)準(zhǔn)配置，用戶有特殊要求需訂貨時提出）

（1）127×127mm掩版夾盤

（2）Φ100mm承片臺

（3）顯微鏡組成

（4）單筒顯微鏡二個

（5）兩個CCD

（6）視頻連接線

（7）計算機和19"液晶監(jiān)視器