型號(hào) ：ZCL-700

一、真空室：

1. 形式：雙腔室結(jié)構(gòu)，中間配置閘板閥；

 A、濺射室：700（寬）x700(深)x600mm(高)，后開門；配置3個(gè) CF35法蘭，軸心指向工作臺(tái)，用于觀測(cè)，觀測(cè)路徑上不得有阻擋;另設(shè)置φ100mm觀測(cè)窗一個(gè)；

 B、進(jìn)料室：500（寬）x500(深)x600mm(高)，前開門；配置射頻離子源（清洗）和傳送機(jī)構(gòu)，支持Φ250mm×20mm（高），重量≥2kg樣品的送入；

C、閘板閥：500x400mm.送料機(jī)構(gòu)傳送；

2. 室體材料304不銹耐酸鋼，內(nèi)壁不銹鋼拋光，外壁噴丸處理；

3. 含2套腔體防污板 （304材料）；

4. 樣片在上，磁控靶在上；

5. 冷卻管道采用304不銹鋼管；

6. 主機(jī)與電控柜連接之電纜，應(yīng)裝入線槽，且從上方通過(guò)；

7. 所有供水管均采用塑料高壓氣管，進(jìn)、出水塑料高壓氣管采用兩種不同顏色顯示；

8. 控電柜采用縱柜形式；

二、真空系統(tǒng)：

1．進(jìn)料室：A.極限真空 ≤1.0x10^-3pa，恢復(fù)真空： 大氣→9×10^-1Pa ≤30min；

B.真空泵配置：250分子泵 + GSD120B干泵一臺(tái)；

C.送樣系統(tǒng) 采用load-lock室送樣系統(tǒng)，支持Φ250mm×20mm（高），重量≥2kg樣品的送入；

2．濺射室：A.極限真空 ≤5.0x10^-5pa，恢復(fù)真空： 大氣→1.0×10^-4Pa ≤40min；

                        B.升壓率：≤5.0pa@12hours；

C.真空泵配置：GSD120B干泵一臺(tái)（低噪音）+ 400分子泵一臺(tái)；

D.濺射真空室抽氣速率45min內(nèi)真空度≤1×10^-4Pa；  

E.濺射真空室升壓率 ≤5.0Pa@12hours；

3. 真空系統(tǒng)測(cè)量：自動(dòng)真空壓強(qiáng)控制儀；觀察窗口徑≥Φ80mm；

4. 真空系統(tǒng)操作：自動(dòng)/手動(dòng)(PLC控制)；

三、加熱控溫系統(tǒng)：

1.管狀加熱器加熱紅外輻射加熱，功率6Kw；

2.加熱控制溫度范圍：室溫~300℃，分辨率0.1℃，控溫精度：≤±2℃；

3.數(shù)字PID自動(dòng)控溫系統(tǒng)，溫度可控可調(diào)（測(cè)量位置：被鍍基片附近）；非接觸工件直接測(cè)溫，熱電偶控溫；

四、工作臺(tái)（基片臺(tái)）

1.正置工作臺(tái)1個(gè)，共聚焦濺射。工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)，3-30rpm無(wú)級(jí)變速，速度連續(xù)可調(diào)；

工作模式

全自動(dòng)濺射：調(diào)取預(yù)存設(shè)置參數(shù)，濺射全程無(wú)需干預(yù)，支持999層膜層參數(shù)設(shè)置；

半自動(dòng)濺射：可單獨(dú)設(shè)置全部控制參數(shù)，并執(zhí)行濺射程序，中途可以中斷并修改參數(shù)并重新濺射；

手動(dòng)濺射：點(diǎn)動(dòng)控制各硬件模塊，進(jìn)行濺射；

2.工件旋轉(zhuǎn)：自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~30rpm；可放置φ250mm樣品一件；

3.濺射膜厚均勻區(qū)：不均勻性小于±5%@1μm，區(qū)域直徑≥200mm；

4. 濺射膜厚重復(fù)性：≥95%；

5.加熱控溫系統(tǒng)采用電阻絲加熱；紅外輻射加熱，非接觸工件直接測(cè)溫，熱電偶控溫；加熱控制溫度范圍：室溫~300℃，分辨率0.1℃，控溫精度：≤±2℃；

6.工作臺(tái)高度可調(diào)，以滿足靶基距離調(diào)整要求；

五、磁控濺射靶及電源（直徑6英吋磁控靶，濺射靶數(shù)量3個(gè)，角度可調(diào)）：

1.直流濺射電源（3件）：3KW（恒流控制）；射頻電源2件，1.5Kw；

2.濺射方式：由上往下濺射；靶基間距80-300mm可調(diào)，調(diào)節(jié)量可控，分辨率≤±1mm；

3.濺射材料：A.金屬：Au、Pt、Ti、Cr、Ni、W、Fe、Cu、Ag、Al、NiCr、NiSi；

                          B.非金屬：AlN、SiO2、Al2O3；

4.每件靶上面有氣動(dòng)擋板，擋板可旋轉(zhuǎn)；

5.濺射模式 直流濺射/射頻濺射；

6.功率 直流濺射功率≥1000W；射頻濺射功率＞600W；

7.有效區(qū)域 ≥Φ250mm；

8.濺射膜厚均勻性 不均勻性小于±5%@1μm 區(qū)域直徑≥200mm；

9.濺射膜厚重復(fù)性 ≥95%；

10.靶電極和冷卻水管須套在不銹鋼管內(nèi)；

11.磁控濺射靶的冷卻水做到只要鍍膜開機(jī)抽真空，其冷卻水就暢通；

12.直流、射頻磁控電源能方便切換到需要工作的磁控濺射靶上，預(yù)濺射正式濺射的時(shí)間能直觀地顯示在觸摸屏上；

六、壓力控制系統(tǒng)：

1.自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀：控制范圍5×10^-2Pa（0.1Pa）～10 Pa可調(diào)，穩(wěn)定控制精度±0.1Pa；

2.氣路控制3路工藝氣體進(jìn)氣，1路N2，1路Ar，1路O2，質(zhì)量流量計(jì)控制氣體流量；

3.充氣系統(tǒng)：配3只日本山武質(zhì)量流量計(jì)；

4.氣路：全金屬管路，采用內(nèi)壁拋光不銹鋼管；

七、清洗系統(tǒng)：

Load-lock室配置IBD-RISE-12-HO射頻離子源，可對(duì)樣品進(jìn)行射頻清洗；

八、計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制系統(tǒng)：

1.控制方式：17”一體式工控機(jī)電腦 + 工業(yè)控制PLC模塊；

2.性能：

1）可靠性：設(shè)備的故障反饋及誤操作互鎖保護(hù)功能，具備各系統(tǒng)的自診斷功能：設(shè)備一旦出現(xiàn)故障，自動(dòng)存儲(chǔ)故障記錄，發(fā)出聲光報(bào)警，等待操作人員檢查處理；                             

2）自動(dòng)化：可以實(shí)現(xiàn)從排氣到濺射完成的一鍵控制，控制較為靈活；

3）用戶可自行編寫濺射程序，并由此濺射機(jī)自動(dòng)實(shí)施；

3.濺射數(shù)據(jù)管理：

1）參數(shù)包括但不限以下：膜層的濺射氣壓、功率（電壓、電流）、時(shí)間、溫度、基片臺(tái)轉(zhuǎn)速等；

2）真空度數(shù)據(jù)保存及曲線顯示；

4.工作模式：

1）全自動(dòng)濺射：調(diào)取預(yù)存設(shè)置參數(shù)，濺射全程無(wú)需干預(yù)，支持999層膜層參數(shù)設(shè)置；

2）半自動(dòng)濺射：可單獨(dú)設(shè)置全部控制參數(shù)，并執(zhí)行濺射程序，中途可以中斷并修改參數(shù)并重新濺射；

3）手動(dòng)濺射：點(diǎn)動(dòng)控制各硬件模塊，進(jìn)行濺射；

每層膜層的濺射氣壓曲線、功率（電壓、電流）曲線、時(shí)間、溫度曲線、基片臺(tái)轉(zhuǎn)速等參數(shù)并以數(shù)據(jù)表和圖片的形式導(dǎo)出，且界面美觀；

4.濺射過(guò)程自動(dòng)化，自動(dòng)控制的主要內(nèi)容：

1）具備..的故障反饋及誤操作互鎖保護(hù)功能以及各系統(tǒng)自診斷功能；

2）真空系統(tǒng)抽、排氣可編程設(shè)置，由工控電腦自動(dòng)控制完成；

3）工件盤轉(zhuǎn)動(dòng)的高，低速旋轉(zhuǎn)可編程設(shè)置；

4）氣體管路閥門及進(jìn)氣量可編程設(shè)置；由工控電腦自動(dòng)控制壓控儀完成；

5）各個(gè)泵閥的控制由PLC來(lái)自動(dòng)完成；

6）膜厚控制采用時(shí)間功率方式進(jìn)行，可顯示濺射時(shí)間及功率；

5.控制特點(diǎn)：

1）人機(jī)界面為中文觸摸形式，可由觸摸屏或鍵盤和鼠標(biāo)進(jìn)行對(duì)話；

2）參數(shù)設(shè)置功能：時(shí)間、功率及相關(guān)參數(shù)；

3）可通過(guò)編程進(jìn)行參數(shù)設(shè)置，也可在電腦屏幕上直接輸入；

4）具有數(shù)據(jù)信息自動(dòng)存儲(chǔ)功能，記錄文件可方便的輸出；

5）記錄文件格式可轉(zhuǎn)換為Excell格式；

6）整個(gè)工作過(guò)程自動(dòng)儲(chǔ)存；

7）保護(hù)功能具備自鎖、互鎖安全保護(hù)措施：

九、安裝要求：

1.環(huán)境溫度：10～35℃;

2.相對(duì)濕度：不大于80%；

3.設(shè)備周圍環(huán)境整潔，空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在；

十一、設(shè)備動(dòng)力要求：

1.水源: 自來(lái)水循環(huán)，水壓0.2～0.3Mpa，水量～60L/min，進(jìn)水溫度≤20℃～25℃；

2.氣源：氣壓0.6Mpa；

3.電源：三相五線制220V/380V，50Hz，電壓波動(dòng)范圍：三相342～399V，單相198～231V；頻率波動(dòng)范圍：49～51Hz；設(shè)備功率：～20KW；接地電阻4Ω；

十一、設(shè)備總尺寸：＜2.5m(長(zhǎng)) x 1.5m(寬) x 2.0（高）；