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四川G-43B4型高精密單面光刻機

G-43B4型高精密單面光刻機 產(chǎn)品介紹:設(shè)備概述: 本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品,通常情況下可曝光基片尺寸為:Φ4&quo…

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G-43B4型高精密單面光刻機


一、設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品,通常情況下可曝光基片尺寸為:Φ4",對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對多種材料的基片進行光刻,它特別適用做一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等,此設(shè)備曝光不均勻性:(在Φ100范圍內(nèi)≤4%),所以大大提高了設(shè)備的光刻質(zhì)量。


G-43部件圖

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曝光頭及部件圖

二、主要技術(shù)指標(biāo)

1.操作方式:手動;

2.曝光模式:接觸式曝光;

3.曝光面積:Φ4";

4.紫外光源:g線(436nm)或i線(365nm);

5.曝光分辨率:3um;

6.曝光頭汞燈為GCQ350W型高壓直流球形汞燈;

7.電源:單相AC220V  50HZ ,功耗≤1.5KW;

8.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;

9.尺寸和重量:

尺寸:機體1000 mm(長)×720 mm(寬)×1600mm(高)。

重量:≤160Kg;



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