G-43E4型高精密單面光刻機

一、設備概述

G—43E4型光刻機是根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，其設備的特點是曝光面積極大，通常情況下為Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺。承片臺都能實現(xiàn)“真空密著”曝光，加之光均勻性好（Φ100mm范圍內(nèi)≥97%），所以大大提高光刻質(zhì)量。

二、主要功能特點

1.適用于5mm以下的各種基片的一次曝光。

2.本設備配置有可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。

3.操作簡便，本設備操作簡單，調(diào)試、維護、修理等都非常簡便。

4.設備運行穩(wěn)定、可靠；采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

5.特設功能

除標準承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1、光斑尺寸：110x110mm，配置4"蠅眼專用曝光頭；

2、基片厚度：≤2mm；

3、曝光分辨率：1μm（所需條件見后面附件1）；

4、可以為用戶制作具有預定位機構(gòu)的專用承片臺，片對版的預定位精度≤±0.1mm；

5、曝光頭用燈為GCQ350Z型高壓直流球形汞燈；

6、曝光強度：≥5mw/cm²；

7、光的均勻性在Φ100mm范圍內(nèi)≥97%（測量儀器：光強計；測量方法：逐點檢測法）；可以通過調(diào)節(jié)曝光頭光柵來改變光強；