G-25D4型高精密單面光刻機

基本尺寸圖

一、設備概述：

本設備是乙方針對各高校及科研單位對光刻機的使用特性研發(fā)的一種精密光刻機，采用氣浮找平技術可有效補償片的楔形誤差所產(chǎn)生的版片接觸不良，使曝出的線條更優(yōu)，減小因找平力過大而產(chǎn)生版的嚴重擦傷,它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

LED曝光頭及部件圖

高精度X、Y、Q 調(diào)節(jié)機構

二、主要技術指標：

1、曝光類型：單面；

2、曝光面積：110×110mm；

3、曝光照度不均勻性：≤3%（測量儀器：光強計；測量方法：逐點檢測法。）；

4、曝光強度：≤30mw/cm2；（測量儀器：光強計；測量方法：紫外線照度計測量。）；

5、紫外光束角：≤3?；

6、紫外光中心波長：365nm；

7、光源質保期：2年；

8、采用電子快門；

9、曝光分辨率：1μm；

10、顯微鏡掃描范圍：X： ±15mm   Y：±15mm；

11、對準范圍：X、Y 調(diào)節(jié) ±4mm；Q向調(diào)節(jié)±3°；

12、套刻精度：1μm(用戶的“版”、“片”精度必須符合國家規(guī)定，環(huán)境、溫度、濕度、塵埃能得到嚴格控制，采用進口正性光刻膠，且勻膠厚度能得到嚴格控制。)見后面附件1；

13、分離量：0～50μm可調(diào)；

14、曝光方式：密著曝光，可實現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；

15、找平方式：氣浮找平；

16、顯微系統(tǒng)：雙視場CCD系統(tǒng)，顯微鏡91X～570X連續(xù)變倍（物鏡1.6X～10X連續(xù)變倍），雙物鏡距離可調(diào)范圍50mm～120mm，計算機圖像處理系統(tǒng)，19″液晶監(jiān)視器；

17、掩模版尺寸：≤127×127mm；

18、基片尺寸：≤Φ100mm；

19、基片厚度：≤5 mm，因基片的厚度不同，制作承片臺時需要進行分級處理，單獨設計制作，1mm為一個等級(基片厚度:0-5mm可分為五個等級：0-1mm,1-2mm,2-3mm,3-4mm,4-5mm)其中：我公司隨機配送厚度為0-1mm等級的承片臺，若用戶還需其余等級承片臺（訂貨時用戶須說明，費用另議）；

20、曝光定時：0～999.9秒可調(diào)；

21.設備所需能源：

主機電源： 220V±10%   50HZ，1.5KW

潔凈空氣≥0.4MPα

真空：-0.07～－0.08MPα

22、尺寸：機體1000 mm（長）×720 mm（寬）×1500mm（高），重量：≤200Kg；

23、G-25D4型高精密光刻機的組成：

由LED紫外曝光頭、CCD顯微顯示系統(tǒng)、對準工作臺、電氣控制系統(tǒng)構成；

24、附件如下：

a.主機附件：（出廠時安裝到機器上的標準配置，用戶有特殊要求需訂貨時提出）

（1）127×127mm掩版夾盤

（2）Φ100mm承片臺（標配）

b.顯微鏡組成

（1）單筒顯微鏡二個

（2）兩個CCD

（3）視頻連接線

（4）計算機和19"液晶監(jiān)視器