G-43D6型高精密單面光刻機(jī)

一 、設(shè)備概述

G-43D6型光刻機(jī)是根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，可以做Φ6"以下基片，對(duì)被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對(duì)多種材料的基片進(jìn)行光刻。它特別適用進(jìn)行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片臺(tái)或方形承片臺(tái),不管哪一種承片臺(tái)，如果基片厚度≤2mm，承片臺(tái)都能實(shí)現(xiàn)“真空密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質(zhì)量。

二、主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
適用于Φ6"以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
2.結(jié)構(gòu)構(gòu)成
本設(shè)備配置有可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡便
本設(shè)備操作簡單，調(diào)試、維護(hù)、修理等都非常簡便。
4.設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定、可靠
采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。
5.特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外，還可以為用戶定制專用承片臺(tái)，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對(duì)準(zhǔn)的問題

三、主要技術(shù)參數(shù)

1，操作方式：手動(dòng)；

2，曝光模式：接觸式一次曝光；

3，曝光面積：Φ6"，配置6"LED專用曝光頭，光源質(zhì)保期：1年；

4，平行半角范圍≤2.5°，工作距68±5mm；

5，紫外光源中心波長：365nm；

6，基片厚度≤5mm（需要分級(jí)，每級(jí)級(jí)差1mm）；

7，曝光分辨率：1um；

8，光的均勻性：≥96%（測量儀器：光強(qiáng)計(jì)；測量方法：逐點(diǎn)檢測法）；

9，樣品尺寸：?150mm；

10，曝光強(qiáng)度：≤30mw/cm²（此指標(biāo)用紫外光源I線365nm測量）；