
成都精密光刻機的主要用途和主要性能指標:
一、 主要用途:
(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;
(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;
(3) 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀;
二、 主要性能指標:
1 、曝光類型:雙面對準單面曝光;
2 、曝光面積:210mmX210mm;
3 、曝光強度:≤30mw/cm2,(測量儀器:光強計;測量方法:紫外線照度計測量);
4 、曝光照度均勻性: ≥96% (Φ208mm范圍內(nèi));紫外光束角:≤3?(測量儀器:光強計;測量方法:逐點檢測法。);
5 、紫外光源:LED ,紫外光中心波長:365nm,光源質(zhì)保期:1 年;
6 、曝光模式:可以正反對準,正面套刻曝光;
7 、曝光方式:密著曝光,可實現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;
8 、曝光分辨率:≤3 μm (Φ 208mm 范圍內(nèi));
9、對準范圍:X、Y≤±3mm,Q ≤±3 ° , X,X 方向平移精度≤1um,Q 轉調(diào)節(jié)精 度≤0.5 °,對準精度:正面≤2 μm ;反面≤4 μm;
10 、載物臺 x,y 平面移動精度≤1um;
11、對準方式:手動;
12 、接觸-分離漂移:≤2 μm ;分離量;0~50μm 可調(diào);
13 、具有三點自動找平功能,找平精度≤3um;
14 、顯微系統(tǒng):
1) 正面對準采用雙視場 CCD 立式顯微鏡,總放大倍數(shù)觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為: 1.6 × 57=91 倍(小倍數(shù)),10×57=570 倍(大倍數(shù)),連續(xù)調(diào)節(jié)。兩個顯微鏡間距可以調(diào)節(jié)(通過模組調(diào)節(jié))調(diào)整范圍 Y: -100~-30mm ,30~100mm X: ±100mm;顯微鏡 X,Y 位置通過觸摸屏預先數(shù)字設置;
2) 反面對準采用雙視場 CCD 臥式顯微鏡。總放大倍數(shù)為 57-400 倍連續(xù)變焦,顯微鏡調(diào) 整范圍: Y:-80~-30mm ,30~80mm X:±3mm,Z≤3mm ,通過千分尺實現(xiàn) 移動;
15 、配置掩模版架: 9 ″ ×9 ″;
16 、配置基片載物臺: φ8 ″;
17 、配有無油靜音真空泵和無油靜音空壓機;
18、尺寸和重量:
尺寸:機體 1300 mm(長) ×720 mm(寬) × 1900mm(高);
重量:≤200Kg;
19 、G-33D8 型光刻機的組成:
由主機(含機體和工作臺),對準用單筒顯微鏡,LED 紫外曝光頭組成;
20 、附件如下:
a. 主機附件:(出廠時安裝到機器上);
1) 9" □型掩版夾盤。
用于Φ8"基片的真空夾持承片臺;
b. 顯微鏡組成;
(1)單筒顯微鏡二個;
(2)兩個 CCD;
(3)視頻連接線;
(4)計算機和19"液晶監(jiān)視器;

還有更多關于成都精密光刻機的信息請持續(xù)關注鑫南光官網(wǎng)信息更新。

當前位置:
熱門推薦






推薦新聞
在線留言
詳情內(nèi)容 


