G-43E6型高精密單面光刻機(jī)

一、設(shè)備概述

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進(jìn)行光刻。它特別適用進(jìn)行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。

二、主要技術(shù)參數(shù)

1、操作方式：手動(dòng)；

2、曝光模式：接觸式曝光；

3、曝光面積曝光面積：150mm×150mm；

4、紫外光源：g線（436nm）和i線（365nm）；

5、實(shí)現(xiàn)“真空密著”曝光，但基片厚度≤2mm；

6、分辨率：Φ100mm范圍內(nèi)≤2um；

7、曝光不均勻性：3%（Φ100mm范圍）；5%（Φ150mm范圍）；

8、曝光光源：350W汞燈（進(jìn)口）；

9、曝光強(qiáng)度：≥5mW/cm2；

10、光源平行性：≤3.5°；

11、樣品尺寸：Φ150mm；