G-43E4型高精密單面光刻機(jī)

一、設(shè)備概述

G—43E4型光刻機(jī)是根據(jù)市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品，其設(shè)備的特點(diǎn)是曝光面積極大，通常情況下為Φ4"，對(duì)被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對(duì)多種材料的基片進(jìn)行光刻，它特別適用一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，按用戶要求可提供圓形承片臺(tái)或方形承片臺(tái)。承片臺(tái)都能實(shí)現(xiàn)“真空密著”曝光，加之光均勻性好（Φ100mm范圍內(nèi)≥97%），所以大大提高光刻質(zhì)量。

二、主要功能特點(diǎn)

1.適用于5mm以下的各種基片的一次曝光。

2.本設(shè)備配置有可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。

3.操作簡(jiǎn)便，本設(shè)備操作簡(jiǎn)單，調(diào)試、維護(hù)、修理等都非常簡(jiǎn)便。

4.設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定、可靠；采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。

5.特設(shè)功能

除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外，還可以為用戶定制專用承片臺(tái)，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無(wú)法對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1、光斑尺寸：110x110mm，配置4"蠅眼專用曝光頭；

2、基片厚度：≤2mm；

3、曝光分辨率：1μm（所需條件見后面附件1）；

4、可以為用戶制作具有預(yù)定位機(jī)構(gòu)的專用承片臺(tái)，片對(duì)版的預(yù)定位精度≤±0.1mm；

5、曝光頭用燈為GCQ350Z型高壓直流球形汞燈；

6、曝光強(qiáng)度：≥5mw/cm²；

7、光的均勻性在Φ100mm范圍內(nèi)≥97%（測(cè)量?jī)x器：光強(qiáng)計(jì)；測(cè)量方法：逐點(diǎn)檢測(cè)法）；可以通過(guò)調(diào)節(jié)曝光頭光柵來(lái)改變光強(qiáng)；