
成都鑫南光機(jī)械設(shè)備有限公司帶大家一起來(lái)看一下成都真空鍍膜機(jī)的參數(shù):
一、真空鍍膜機(jī)主要用途:
本設(shè)備用于鍍制各種電學(xué)膜,是有關(guān)企業(yè)、研究所和大專院校進(jìn)行生產(chǎn)和科研的理想設(shè)備。
二、主要技術(shù)指標(biāo):
1. 蒸發(fā)室極限真空度: 4×10-4Pa
2. 蒸發(fā)室恢復(fù)4×10-3Pa的時(shí)間: ≤15min
3. 基片旋轉(zhuǎn)架的轉(zhuǎn)速: 0~60n/min
4. 基片烘烤溫度: 室溫~350℃
5. 蒸發(fā)電極數(shù)量: 3對(duì)
6. 蒸發(fā)電極參數(shù): 0~10伏 0~300A
7. 離子轟擊參數(shù): 0~3000伏 0~200mA
8. 鐘罩容積: Φ500×620(mm)
9. 需要?jiǎng)恿Γ? 電力 10KW
10. 外形尺寸: 1300×830×1720(mm)

希望以上關(guān)于成都真空鍍膜機(jī)的介紹對(duì)你有所幫助,更多信息可以直接撥打網(wǎng)站上的咨詢電話和我們?nèi)〉寐?lián)系。

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