
G-25X型高精密單面光刻機(jī)
一、設(shè)備概述:
本設(shè)備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機(jī)的使用特性研發(fā)的一種高精密光刻機(jī),它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
二、設(shè)備主要構(gòu)成
主要由高精度對準(zhǔn)工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。

多點光源(蠅眼)
可調(diào)光強的光欄

三點找平機(jī)構(gòu)
三、主要功能特點
1. 適用范圍廣
適用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光。
2. 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定
具有氣浮式找平機(jī)構(gòu)和可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu);具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3. 操作簡便
采用翻板方式取片、放片;按鈕、按鍵方式操作,可實現(xiàn)真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能,操作、調(diào)試、維護(hù)、修理 都非常簡便。
4. 可靠性高
采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時器;采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件,使本機(jī)具有非常高的可靠性。
5. 特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺外,還可以為用戶定制專用承片臺,來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。
四、主要技術(shù)指標(biāo)
1.設(shè)備能真空吸附5"×5"方形掩板,對版的厚度無特殊要求(1~3mm皆可);
2.設(shè)備能適用于Φ100mm圓形基片(或100×100mm方形基片),基片厚度≤5mm,當(dāng)您的基片厚度≤1mm時,我公司為本機(jī)配置標(biāo)準(zhǔn)承片臺(不另計費),當(dāng)基片厚度>1mm時,設(shè)備需配置專用承片臺;
3.照明:
光源:采用GCQ350Z型高壓水銀直流汞;
照明范圍:≤ф117mm曝光面積:在Φ100mm范圍內(nèi),曝光不均勻性:≤4%,曝光強度:≥6mw/ cm2(此指標(biāo)用紫外光源I線365nm測量);
4.本設(shè)備采用進(jìn)口時間繼電器控制氣動快門,動作準(zhǔn)確、可靠;
5.對準(zhǔn):觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上;
6.曝光分辯率:本設(shè)備硬接觸曝光的分辨度可達(dá)1μm以上;
7.本機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實現(xiàn);
a.硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPa;
b.軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間;
c.微力接觸曝光:小于軟接觸,真空≥-0.02MPa;
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