G-25X型高精密單面光刻機(jī)

一、設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機(jī)的使用特性研發(fā)的一種高精密光刻機(jī)，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

二、設(shè)備主要構(gòu)成

主要由高精度對準(zhǔn)工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。

 多點光源（蠅眼）

可調(diào)光強的光欄

三點找平機(jī)構(gòu)

三、主要功能特點

1. 適用范圍廣

適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光。

2. 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定

具有氣浮式找平機(jī)構(gòu)和可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。

3. 操作簡便

采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實現(xiàn)真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理 都非常簡便。

4. 可靠性高

采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。

5. 特設(shè)功能

除標(biāo)準(zhǔn)承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。

四、主要技術(shù)指標(biāo)

1.設(shè)備能真空吸附5"×5"方形掩板,對版的厚度無特殊要求（1～3mm皆可）；

2.設(shè)備能適用于Φ100mm圓形基片（或100×100mm方形基片），基片厚度≤5mm,當(dāng)您的基片厚度≤1mm時，我公司為本機(jī)配置標(biāo)準(zhǔn)承片臺（不另計費），當(dāng)基片厚度＞1mm時，設(shè)備需配置專用承片臺；

3.照明：

光源：采用GCQ350Z型高壓水銀直流汞；

照明范圍：≤ф117mm曝光面積：在Φ100mm范圍內(nèi),曝光不均勻性：≤4%，曝光強度：≥6mw/ cm2（此指標(biāo)用紫外光源I線365nm測量）；

4.本設(shè)備采用進(jìn)口時間繼電器控制氣動快門，動作準(zhǔn)確、可靠；

5.對準(zhǔn)：觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上；

6.曝光分辯率：本設(shè)備硬接觸曝光的分辨度可達(dá)1μm以上；

7.本機(jī)為接觸式曝光機(jī)，但可實現(xiàn)；

a.硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸，真空≤-0.05MPa；

b.軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間；

c.微力接觸曝光：小于軟接觸，真空≥-0.02MPa；

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