G-43D4型高精密單面光刻機
一、設(shè)備概述
G—43D4型光刻機是根據(jù)高等學(xué)府需求研發(fā)的產(chǎn)品,可以做100X100mm以下基片,對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,不管哪一種承片臺,如果基片厚度≤2mm,承片臺都能實現(xiàn)“真空密著”曝光,加之光均勻性好,所以大大提高光刻質(zhì)量。

二、主要技術(shù)參數(shù)
1、操作方式:手動;
2、曝光模式:接觸式一次曝光;
3、光斑尺寸:Ф102mm,配置4"LED專用曝光頭,光源質(zhì)保期:1年;
4、紫外光中心波長:365nm;
5、基片厚度≤5mm。(需要分級,每級級差1mm);
6、分辨率:1um(所需條件見后面附件1);
7、光的均勻性:≥97%(測量儀器:光強計;測量方法:逐點檢測法);
8、樣品尺寸:Φ100mm(標(biāo)配);
9、曝光強度:≤30mw/cm2,(此指標(biāo)用紫外光源I線365nm測量);
10、電源:單相AC220V 50HZ ,功耗≤1.5KW;
11、潔凈空氣壓力:≥0.4MPa;
12、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;

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